Американская компания Multibeam получила свой первый заказ на Тайване. Национальный университет Цинхуа (NTHU) в ближайшее время внедрит инновационную платформу многолучевой электронно-лучевой литографии MBX. Данное оборудование будет задействовано в передовых исследованиях и разработке технологий микроэлектроники следующего поколения. Поставка высокотехнологичной системы запланирована на 2027 год.
Установка будет базироваться в Колледже полупроводниковых исследований при университете. В планах учебного заведения не только проведение фундаментальных научных изысканий, но и запуск совместных проектов с крупнейшими тайваньскими производителями полупроводников.
Ключевым преимуществом платформы MBX является полный отказ от использования традиционных фотошаблонов. Вместо них система осуществляет прямое формирование рисунка микросхемы на кремниевой пластине с помощью параллельной работы нескольких электронных лучей. Такой подход существенно ускоряет процесс выпуска опытных образцов сразу после завершения проектирования, что напрямую влияет на сокращение сроков разработки и оптимизацию её стоимости.
Как подчеркивают разработчики, технология успешно сочетает в себе прецизионную точность и высокую производительность. Она оптимально подходит для создания современных корпусов микросхем, специализированных квантовых устройств, фотонных компонентов, а также высокоэффективных ускорителей искусственного интеллекта.
Для компании Multibeam этот контракт носит стратегический характер. Учитывая статус Тайваня как глобального центра производства передовых полупроводниковых решений, успешный запуск первой установки MBX в этом регионе может стать фундаментом для долгосрочного сотрудничества с ведущими игроками рынка и откроет двери на один из самых перспективных сегментов мировой индустрии.
