Домой Железо 3D X-DRAM впервые воплотили в кремнии — оперативная память будущего стала ближе

3D X-DRAM впервые воплотили в кремнии — оперативная память будущего стала ближе

Стартап NEO Semiconductor при поддержке легендарного Стэна Ши представил работающий образец стековой памяти, способный обойти HBM по ключевым параметрам.

Стековое размещение ячеек оперативной памяти способно радикально увеличить плотность хранения данных и устранить проблему нехватки ОЗУ. Первые попытки в этом направлении, такие как память HBM, оказались эффективными, но слишком дорогостоящими для массового рынка. Отрасль остро нуждается в переходе архитектуры DRAM на принципы 3D NAND, и теперь первый работающий прототип такого решения успешно воплощен в кремнии.

Прототип архитектуры 3D X-DRAM
Схема стековой памяти 3D X-DRAM Источник: 3dnews.ru

Разработкой 3D X-DRAM занялась американская компания NEO Semiconductor. Если год назад стартап испытывал трудности с поиском партнеров среди производителей микросхем, то сегодня технология вызвала серьезный интерес у крупных инвесторов и индустриальных гигантов. Руководство NEO Semiconductor отмечает активные переговоры с лидерами рынка, что должно ускорить коммерциализацию стековой оперативной памяти.

Ключевым этапом для проекта стало сотрудничество со Стэном Ши (Stan Shih), легендарным основателем компании Acer и бывшим главой TSMC. Параллельно компания объединила усилия с Национальным университетом Янмин Цзяотун (NYCU) и его специализированным подразделением — Школой инноваций (IAIS). Экспериментальный образец 3D X-DRAM был произведен на мощностях Тайваньского научно-исследовательского института полупроводников (NIAR-TSRI).

Тесты, проведенные специалистами NIAR-TSRI, подтвердили впечатляющие характеристики архитектуры:

  • Задержка чтения и записи составляет менее 10 нс.
  • Время регенерации при температуре 85 °C превышает 1 секунду, что в 15 раз превосходит требования стандарта JEDEC (64 мс).
  • Устойчивость к износу достигла показателя 10¹⁴ циклов.

Джек Сан, бывший технический директор TSMC и декан Института прикладных исследований, подчеркнул, что успешная проверка концепции доказывает возможность внедрения инновационной архитектуры памяти с помощью уже отработанных производственных процессов.

Тестирование образцов 3D X-DRAM
Лабораторный образец 3D X-DRAM Источник: 3dnews.ru

Инженеры NEO Semiconductor закладывают в проект использование стековой компоновки и экстремально широкой шины данных (порядка 32 000 бит). Это позволит создавать модули с плотностью 512 Гбит на кристалл, обеспечивая пропускную способность, в 16 раз превышающую возможности современных HBM-решений. По прогнозам, внедрение данной технологии может произойти значительно раньше, чем развитие текущих стандартов HBM достигнет схожих результатов.

Источник: https://3dnews.ru