До сих пор главным покупателем сверхдорогих литографических систем ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) считалась компания Intel, однако её интерес к ним долгое время носил экспериментальный характер и ограничивался подготовкой к переходу на технологию 14A. Теперь же руководство ASML объявило, что первые коммерческие микросхемы, выпущенные с помощью этого передового оборудования, появятся на рынке уже в течение текущего года.
Напомним, корпорация Intel начала приобретать литографические сканеры семейства TwinScan EXE:5000 для исследовательских целей и прототипирования ещё в середине 2023 года. В дальнейшем компания забронировала всю доступную партию сканеров данного класса на 2024 год, а к исходу 2025 года ввела в эксплуатацию первую установку серии TwinScan EXE:5200, пригодную для реального серийного выпуска полупроводниковой продукции. Данное технологическое решение позволяет существенно уменьшить геометрические размеры компонентов, нарастить плотность транзисторов на одном кристалле и поднять общую производительность процессоров. Производительность нового сканера достигает 220 кремниевых пластин за один час. При этом специалисты отмечают, что на практике в серийном производстве Intel не станет задействовать High-NA EUV для формирования абсолютно всех слоёв микросхемы, ограничившись лишь критически важными этапами литографии.
В то же время крупнейший контрактный производитель чипов TSMC пока проявляет осторожность, рассматривая оборудование с высокой числовой апертурой как избыточно дорогое для массового внедрения. Тем временем Samsung Electronics стремится не отставать от американского конкурента и постепенно закупает сканеры ASML нового поколения, аналогичную стратегию выбирает и компания SK hynix. В результате подобные литографические комплексы находят применение как при создании передовых логических процессоров, так и в производстве современной памяти.
На это обстоятельство прямо указал генеральный директор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) во время выступления на отраслевом мероприятии, организованном бельгийским исследовательским центром Imec. По его словам, в ближайшие месяцы компания ожидает появления первых серийных изделий, обработанных на системах High-NA, как в сегменте логических чипов, так и в производстве памяти. Стоит отметить, что стоимость одной такой литографической системы составляет около $400 млн. Несмотря на колоссальные первоначальные инвестиции, оборудование позволяет сократить расходы на специализированную оснастку для фотошаблонов и существенно ускорить общий цикл изготовления полупроводников.
