Освоение передовых литографических технологий всегда сопряжено с высоким процентом брака на старте, однако компании Intel удалось добиться впечатляющих результатов на раннем этапе внедрения техпроцесса 14A. Еще до запуска опытного производства выход годных кристаллов достиг отметки в 50 %.
Такими данными делится ресурс TechPowerUp, ссылаясь на аналитическую записку специалистов из Morgan Stanley. Согласно дорожной карте Intel, технология 14A должна прийти на смену 18A: старт опытного производства запланирован на 2028 год, а полномасштабный выпуск продукции — не ранее 2029 года. Учитывая столь раннюю стадию разработки, показатель в 50 % считается весьма перспективным. По прогнозам аналитиков, к первому кварталу следующего года уровень дефектности может снизиться до 10–20 %, что позволит компании приступить к выпуску первых полноценных прототипов чипов по техпроцессу 14A.
Расчеты показывают, что если бы Intel использовала нормы 14A для выпуска ядер процессоров Panther Lake (при площади кристалла 114 мм²), то с учетом возросшей плотности транзисторов выход годных изделий составил бы 56,45 %. Для более крупных тестовых чипов, создаваемых в рамках обкатки новой технологии, уровень выхода оценивается в 40 %. Если же удастся снизить вероятность появления дефектов до 10–20 % на площади 100 мм², то показатель годности продукции может достичь 80–90 %. Тем не менее, реальные показатели будут несколько ниже из-за необходимости соблюдения строгих технических характеристик, которым соответствуют не все функционально исправные кристаллы.
На сегодняшний день программное обеспечение для проектирования чипов по техпроцессу 14A находится на стадии версии 0.5. Ожидается, что к осени текущего года готовность инструментов достигнет версии 0.9, после чего они станут доступны внешним клиентам Intel. В рамках этой технологии компания делает ставку на передовое литографическое оборудование ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV). В распоряжении чипмейкера уже имеется наиболее совершенная система Twinscan EXE:5200B, обладающая высокой производительностью для оборудования данного класса.
