Корпорация Intel начала активные эксперименты с передовым литографическим оборудованием ASML, обладающим высокой числовой апертурой (High-NA). Хотя подобные исследования ведутся с 2024 года, до недавнего времени сроки начала их применения в серийном производстве оставались под вопросом. Как сообщает поставщик оборудования, технология High-NA EUV уже задействована при выпуске части мобильных процессоров серии Panther Lake.
Процессоры Panther Lake изготавливаются по передовой технологии Intel 18A. Важно отметить, что сам по себе техпроцесс 18A не требует обязательного использования сканеров High-NA EUV, однако Intel решила начать практическое внедрение этого оборудования раньше, чем планировалось изначально. Предполагалось, что компания ограничит использование таких установок этапами после освоения более «тонких» техпроцессов.
По данным агентства Reuters со ссылкой на представителей ASML, Intel уже применяет High-NA EUV для обработки отдельных слоёв в некоторых чипах Panther Lake. Учитывая стоимость одного такого сканера, превышающую $400 млн, текущие масштабы внедрения нельзя назвать массовыми. Основная цель Intel — отработать технологические нюансы и получить ценный опыт в реальных условиях производства.
Подобный подход позволит Intel совместно с ASML оптимизировать использование дорогостоящего оборудования перед его полноценным внедрением. Масштабное использование High-NA EUV компания планирует запустить в рамках техпроцесса 14A, освоение которого намечено на 2027 год. В то же время ключевой конкурент, компания TSMC, проявляет осторожность: несмотря на интерес к технологии, производитель считает текущую стоимость оборудования чрезмерно высокой для оперативного внедрения в производственные линии.
