Тег: EUV
ASML сохранит верность технологии LPP вместо ускорителей частиц для EUV-литографии
Компания ASML намерена развивать текущую технологию лазерно-плазменных источников света, игнорируя альтернативные разработки на основе ускорителей частиц.
Samsung внедрит литографию High NA EUV в производство DRAM к 2028...
Samsung и ASML договорились о внедрении High NA EUV-литографии в выпуск DRAM к 2028 году. Параллельно компания инвестировала в Mistral AI для оптимизации заводских процессов.
ASML планирует внедрить увеличенные фотошаблоны для High-NA EUV к 2033 году
Компания ASML работает над внедрением 12-дюймовых фотошаблонов для литографических систем High-NA EUV, что позволит увеличить производительность оборудования на 40%.
TSMC начнет использовать EUV-литографию с высокой числовой апертурой в 2030 году
Компания TSMC официально объявила о планах внедрения EUV-сканеров с высокой числовой апертурой (High-NA) в серийное производство, начиная с 2030 года.
Intel Foundry достигла рубежа в миллион кремниевых пластин, обработанных по технологии...
Компания Intel официально отчиталась об обработке одного миллиона 300-миллиметровых кремниевых пластин с использованием фотолитографии высокого разрешения High-NA EUV.
Intel обработала более миллиона пластин на High-NA EUV сканерах
Компания Intel достигла отметки в миллион обработанных кремниевых пластин с использованием сканеров High-NA EUV, опередив по этому показателю всю остальную отрасль.
Nanya инвестирует 10,7 млрд долларов в завод Fab5A для производства EUV...
Компания Nanya Technology направит 10,7 млрд долларов на развитие мощностей Fab5A и внедрение EUV-литографии для выпуска DRAM по нормам 10-нм техпроцесса.
_large.png "Без Zeiss не было бы современных чипов: важнейший партнер ASML расширяет производство компонентов для EUV-литографии")
Без Zeiss не было бы современных чипов: важнейший партнер ASML расширяет...
Zeiss SMT открывает новое производство оптики для EUV-литографии, чтобы ускорить выпуск сканеров ASML и снизить время их сборки до 16 недель.
Zeiss расширила производство оптики в Германии, чтобы удовлетворить аппетиты ASML
Zeiss запустила новый завод в Оберкохене для наращивания поставок оптики ASML. Расширение необходимо для производства EUV-сканеров и сокращения цикла их сборки.
Panther Lake выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части...
Intel приступила к использованию дорогостоящих сканеров High-NA EUV при производстве мобильных процессоров Panther Lake для отработки технологии перед переходом на 14A.
