Домой Статьи и аналитика Рынок и компании Zeiss расширяет производство сложнейшей оптики для 2-нм чипов

Zeiss расширяет производство сложнейшей оптики для 2-нм чипов

Немецкий гигант Zeiss SMT инвестирует в новые мощности для обеспечения спроса на литографические системы ASML нового поколения.

Немецкая компания Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) официально объявила о существенном расширении своих производственных площадей в Оберкохене. Проект включает строительство около 25 тысяч квадратных метров новых помещений, предназначенных для создания высокотехнологичных оптических систем. Эти компоненты являются критически важными для литографических машин ASML, без которых невозможно наладить выпуск современных микросхем по передовым техпроцессам.

Zeiss расширяет производство сложнейшей оптики для 2-нм чипов
Zeiss расширяет производство сложнейшей оптики для 2-нм чипов — иллюстрация к материалу. Источник: ixbt.com

Первые объекты уже введены в эксплуатацию, и персонал приступил к работе в новых корпусах, в то время как оставшаяся часть комплекса будет запускаться поэтапно. Стратегическая значимость этого шага трудно переоценить: предприятия Zeiss в Оберкохене и Вецларе остаются уникальными производственными площадками, где собираются оптические колонны для EUV-литографии.

Зависимость ASML от Zeiss

В годовых отчетах ASML прямо признается, что темпы выпуска литографического оборудования жестко лимитированы производственными мощностями Zeiss SMT. Немецкая компания выступает единственным поставщиком ключевых узлов: сверхточных зеркал, линз, коллекторов и систем освещения. Любой сбой в цепочке поставок Zeiss фактически остановил бы производство оборудования, необходимого для создания 2-нанометровых чипов.

Спрос на системы литографии продолжает расти. В планах ASML на 2027 год значится увеличение выпуска EUV-сканеров типа Low-NA на 30%, доводя объем до более чем 65 установок в год. Параллельно компания работает над оптимизацией процессов: планируется сократить время сборки одного комплекса с 22 до 15–16 недель.

Сложность оптики High-NA EUV

Особую роль в расширении мощностей играет переход к массовому производству систем High-NA EUV. Оптические модули для этих установок признаны одними из самых сложных инженерных изделий в мире:

  • Оптическая колонна: включает более 40 тысяч компонентов при массе около 12 тонн.
  • Система освещения: содержит 25 тысяч деталей при массе около 6 тонн.

Производство одного зеркала требует нескольких месяцев кропотливой работы. После изготовления компоненты проходят проверку в гигантских вакуумных камерах весом свыше 150 тонн, где специалисты контролируют отклонения поверхности с точностью до долей нанометра.

Финансирование и показатели роста

Для ускорения темпов расширения ASML оказывает значительную финансовую поддержку партнеру. По итогам 2025 года объем предоставленных Zeiss SMT кредитов достиг 1,91 млрд евро, а еще 1,19 млрд евро было направлено в виде авансовых платежей за будущие поставки. Стороны также подписали долгосрочные соглашения о совместных инвестициях в развитие инфраструктуры.

Эти меры уже приносят плоды: по итогам финансового года, закрытого в сентябре 2025-го, выручка Zeiss SMT увеличилась на 23%, составив 5,055 млрд евро. На сегодняшний день это подразделение является основным драйвером бизнеса всей группы Zeiss.

Помимо Оберкохена, компания активно развивает производственные площадки в Вецларе, расширяет чистые помещения в Россдорфе и укрепляет свое присутствие в Азии, открыв инновационный центр в Южной Корее.

Источник: https://www.ixbt.com