На прошлой неделе в индустрии полупроводников распространились слухи о планах китайских компаний наладить серийный выпуск оборудования для иммерсионной DUV-литографии (глубокий ультрафиолет). По мнению профильных экспертов, несмотря на амбиции, такие системы пока отстают от передовых разработок нидерландской ASML на несколько поколений.
В понедельник издание The Information сообщило, что некий китайский производитель, пользующийся государственной поддержкой, запустил массовое производство литографических систем. Объемы выпуска пока ограничены: в текущем году ожидается сборка пяти экземпляров, а в следующем — около двадцати. Предполагается, что заказчиками станут крупнейшие игроки отрасли в КНР, включая SMIC, HuaHong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Ожидается, что такое импортозамещение может создать конкуренцию продукции ASML, хотя китайские DUV-сканеры пока уступают западным аналогам по уровню надежности и производительности.
Агентство Reuters позднее уточнило, что ключевым игроком является компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Она была основана в августе 2023 года с уставным капиталом около 1 млн долларов, а её соучредители тесно связаны с шанхайскими муниципальными властями. В команду компании вошли инженеры, ранее работавшие в Shanghai Yuliangsheng и известной Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE).
На фоне этих новостей рынок отреагировал заметным падением акций: за первые три торговых сессии прошлой недели котировки ASML снизились на 13%, а Infineon Technologies — на 15,5%. К четвергу наметился отскок, вызванный комментариями аналитиков JP Morgan, назвавших реакцию инвесторов избыточной. Официальные государственные СМИ Китая прямо не подтвердили запуск производства, однако подчеркнули, что «западная блокада» теряет свою эффективность, выразив надежду, что технологии, которые ранее скрывались от китайской промышленности, со временем станут основой местного производства.
Еще в сентябре прошлого года стало известно, что SMIC тестирует DUV-систему от Yuliangsheng, которая должна позволить наладить выпуск 28-нм чипов к 2027 году. Также сообщалось, что китайские компании пытались прибегнуть к реверс-инжинирингу, разбирая на части системы ASML для последующего копирования. По данным китайских источников, компании Yuliangsheng, SMEE и Shanghai Aishengna фактически используют наработки одной группы инженеров. При этом SMEE в прошлом году перевела разработку DUV-решений под крыло Yuliangsheng, чтобы сосредоточиться на создании более совершенных сканеров класса EUV.
Считается, что создаваемая в Китае система SSX800 по своим характеристикам близка к ASML Twinscan NXT:1950i — модели, которую нидерландская компания представила еще в 2008 году для работы с техпроцессом 28 нм. Более ранняя разработка, SSA800, уже на 70% состоит из компонентов китайского производства. Тем не менее критически важные узлы, такие как источники лазерного излучения, прецизионная оптика, зеркала и специализированное ПО, всё еще требуют импорта. Западные эксперты отмечают, что китайские решения для 28-нм чипов отстают от современных мировых стандартов на четыре поколения, что предопределяет их низкую производительность. Так, система SSA800 способна обрабатывать около 150 пластин в час, однако процент выхода годных кристаллов пока значительно ниже целевых 90–95%. На текущем этапе китайское литографическое оборудование остается малочисленным и недостаточно проработанным для массового внедрения в конвейерный выпуск чипов.
комментарии закрыты.