В Зеленограде на базе НИУ МИЭТ стартовало создание Научно-технологического центра фотошаблонов (НТЦ ФШ). Проект, ставший важным звеном российской микроэлектронной индустрии, реализуется на территории особой экономической зоны «Технополис Москва» с общим объемом инвестиций не менее 31,7 млрд рублей.
Финансирование распределено между федеральным и региональным бюджетами: Минпромторг выделяет 24,3 млрд рублей на закупку технологического оборудования, а правительство Москвы инвестирует 7,4 млрд рублей в возведение производственного комплекса. Изначально смета строительства составляла 3,6 млрд рублей, однако после расширения технического задания бюджет проекта был существенно увеличен.
Цели и техническое оснащение центра
Согласно поручению заместителя председателя правительства РФ Дениса Мантурова, приоритетной задачей центра является освоение выпуска фотошаблонов, необходимых для производства полупроводников по топологическим нормам до 28 нм.
Для реализации этих планов предприятие закупит 73 единицы специализированного оборудования. На текущий момент законтрактовано 49 установок, 30 из которых уже доставлены на площадку. Основная часть техники поступает от зарубежных поставщиков, однако значимая доля заказов приходится на производителей из России и Беларуси.
Среди ключевых образцов отечественного оборудования, которые будут внедрены на производстве:
- Многолучевой лазерный генератор изображения для фотошаблонов с нормами до 250 нм;
- Система контроля топологии и поиска дефектов с точностью до 90 нм.
Сроки реализации и объемы производства
Ввод в эксплуатацию большинства технологических линий запланирован на конец 2026 года. Параллельно ведется строительство производственного корпуса общей площадью 14,5 тыс. квадратных метров. Проектная мощность НТЦ ФШ составит не менее 5,5 тыс. фотошаблонов в год, с возможностью масштабирования до 10 тыс. единиц.
Развитие технологических компетенций будет проходить в несколько этапов:
- 2026–2027 годы: запуск производства фотошаблонов для техпроцессов 350 нм и 250 нм.
- 2028–2029 годы: освоение норм 180 нм и 90 нм.
- 2030 год: переход на уровень 65 нм с последующим движением к 28-нанометровым решениям.
Основными потребителями продукции центра станут крупнейшие российские предприятия микроэлектроники, в числе которых «Микрон», «НМ-Тех» и НИИМЭ. Для отечественных компаний создание стратегического центра микроэлектроники является критически важным шагом на пути к технологическому суверенитету.
