Российский федеральный ядерный центр (РФЯЦ-ВНИИЭФ), входящий в структуру «Росатома», приступает к созданию отечественной установки для жидкостного химического травления полупроводниковых пластин. На реализацию опытно-конструкторских работ по проекту «Спрей» Минпромторг выделил 1,43 млрд рублей. Полный цикл разработки оборудования должен быть завершен к 30 ноября 2029 года.
Перспективная установка ориентирована на обработку кремниевых пластин диаметром до 200 мм и предназначена для внедрения на предприятиях микроэлектронной промышленности. Система сможет функционировать в полностью автоматическом режиме, последовательно выполняя химическое травление, очистку, промывку и финальную сушку полупроводниковых подложек.
Технические требования и возможности системы
Согласно утвержденному техническому заданию, установка должна обеспечивать высокую производительность: обработку до 100 пластин (четыре стандартные кассеты) за один рабочий цикл. Оборудование будет совместимо с широким спектром химических реагентов и получит систему автоматической загрузки и выгрузки через стандарт SMIF, что позволит свести к минимуму риск загрязнения продукции.
К разработчикам предъявляются строгие требования по эксплуатационной надежности системы:
- Показатель равномерности травления — не ниже 5%.
- Наработка на отказ — минимум 2000 часов.
- Расчетный срок службы — не менее семи лет.
Импортозамещение и локализация
Проект «Спрей» является важной частью государственной программы по замещению зарубежного оборудования в сфере микроэлектроники. В документации к проекту в качестве ориентиров упоминаются решения компаний Shellback и Siconnex (США), а также японской Tokyo Electron. На текущий момент полноценных российских аналогов таких систем не существует.
Разработчики делают особый упор на глубокую локализацию: ключевые узлы, такие как процессная камера, ротор, система подачи химии, центральный контроллер и программное обеспечение, должны быть спроектированы и произведены исключительно в России. Использование импортных компонентов возможно только в исключительных случаях и требует обязательного согласования с заказчиком.
Инвестиции в российское оборудование
Для РФЯЦ-ВНИИЭФ, который был основан в 1946 году в Сарове как центр по разработке первых советских атомных и водородных бомб, это не первый профильный контракт. Ранее институт получил заказ на 993 млн рублей для разработки комплекса бондинга и дебондинга полупроводниковых пластин. Суммарно за две недели предприятие привлекло свыше 2,4 млрд рублей государственных инвестиций, направленных на развитие технологий производства микрочипов внутри страны.
