Тег: литография
Nikon намерена нарастить продажи литографического оборудования и потеснить ASML
Nikon планирует расширить долю на рынке литографического оборудования, предлагая конкурентные цены и диверсификацию поставок на фоне проблем ASML и Intel.
Заглянуть за High-NA EUV: перспективы литографии B-EUV
Разбор перспектив развития фотолитографии: почему TSMC откладывает High-NA EUV, что собой представляет заэкстремальный ультрафиолет (B-EUV) с длиной волны 6,7 нм и какие технологические преграды стоят на пути создания чипов будущего.
«Начало мечты»: Huawei показала чип с 2D-транзисторами — это шанс догнать...
Huawei и Нанкинский университет разработали 2D-процессор на дисульфиде молибдена, который позволяет повысить плотность транзисторов без использования дорогой EUV-литографии.
ASML пообещала первые серийные чипы на High-NA EUV уже в этом...
Компания ASML подтвердила, что первые серийные полупроводниковые чипы, созданные с использованием новейших литографических систем High-NA EUV, поступят на рынок до конца текущего года.
Война США и Ирана привела к дефициту сырья для литографии чипов
Напряженность на Ближнем Востоке вызвала нехватку химических растворителей для японских производителей фоторезистов, что угрожает выпуску памяти HBM.
ASML: производители перешли на закупку оборудования для выпуска памяти
Статистика ASML показывает, что спрос на оборудование для производства памяти впервые превысил спрос на машины для создания логических чипов в начале 2026 года.
Сохраняющийся бум ИИ позволил ASML поднять прогноз по выручке на текущий...
Нидерландская компания ASML отчиталась о сильных финансовых результатах за первый квартал и подняла прогноз по выручке на текущий год благодаря устойчивому спросу на оборудование для производства чипов со стороны индустрии искусственного интеллекта.
_large.jpg "США готовят законопроект MATCH Act: тотальный запрет на литографы для Китая")
США готовят законопроект MATCH Act: тотальный запрет на литографы для Китая
Вашингтон планирует ввести MATCH Act — новый законопроект, который закроет лазейки в поставках оборудования для выпуска микросхем в Китай и ограничит сервисную поддержку для технологических компаний КНР.
Samsung планирует внедрить 1-нанометровый техпроцесс к 2030 году
Компания Samsung готовит революцию в полупроводниках: 1-нм техпроцесс с архитектурой forksheet станет ответом конкурентам в 2030 году.
Lace Lithography готовит литографию на атомах гелия
Стартап Lace Lithography привлек $40 млн на разработку литографии на атомах гелия с разрешением 0,1 нм, претендуя на превосходство над EUV-системами ASML.
