Тег: микроэлектроника
Nvidia использует собственный процессор Vera для ускорения разработки будущих чипов
Компания Nvidia внедрила процессор Vera в процессы разработки новых микросхем, добившись 1,5-кратного ускорения верификации сложных конструкций чипов.
Тайвань получил литограф, который «рисует» микросхемы электронными лучами
Тайваньский университет Цинхуа внедрит систему многолучевой электронно-лучевой литографии Multibeam MBX для создания чипов нового поколения без использования фотошаблонов.
«НМ-Тех» готовится к запуску собственной линии корпусирования микросхем
Зеленоградская компания «НМ-Тех», развивающая производство 28-нм чипов, расширяет компетенции и запускает линию корпусирования полупроводников.
Чипы без ASML: Россия и Белоруссия создают оборудование для 65-нм техпроцесса
Россия и Белоруссия разрабатывают комплекс оборудования для производства микросхем по техпроцессу 90-65 нм, чтобы снизить зависимость от импортных технологий.
Китайцы создали идеальную память: для хранения бита ей нужен всего один...
Ученые представили экспериментальную память «Гуйи», использующую один электрон для записи бита. Технология обещает революцию в плотности хранения данных для ИИ.
Китайцы в сто раз ускорили производство фотонных чипов методом ионно-лучевой литографии
Китайские физики разработали технологию «оригами, индуцированного ионным пучком», которая позволила в сотни раз ускорить производство трехмерных элементов фотонных чипов.
Новая статья: CFET: быстрее, меньше, надёжней
Исследователи создали логические контуры на транзисторах CFET с каналами из углеродных нанотрубок. Разбираем перспективы новой технологии и проблемы полупроводников.
Россия снизила планку импортозамещения электроники до 58,7% к 2030 году
Правительство России снизило планку импортозамещения электроники для цифровизации госуправления. Вместо прежней цели в 80% отечественные решения к 2030 году должны занять 58,7% рынка.
В России создали электронно-лучевой литограф для печати чипов эпохи Pentium 4
ЗНТЦ разработал отечественную установку электронно-лучевой литографии с нормами 150 нм для выпуска фотошаблонов и мелкосерийного производства спецчипов.
Китайские учёные ускорили производство оптических чипов с часов до секунд
Учёные из Китая создали метод массового производства 3D-оптических структур, сокращающий время изготовления чипов в 100 раз.
