Технология Beyond-EUV: литография на атомах гелия
Норвежский стартап Lace Lithography успешно завершил первый раунд финансирования, собрав $40 млн при поддержке Microsoft. Цель компании — создание принципиально нового литографического сканера, в котором для обработки кремниевых пластин вместо света используются направленные пучки атомов гелия. Разработчики заявляют, что их решение обеспечит разрешение 0,1 нм, что в десять раз превышает возможности текущих систем EUV от компании ASML, использующих излучение с длиной волны 13,5 нм.
Отказ от фотонов и преодоление дифракционного предела
Ключевое преимущество системы Lace заключается в отсутствии дифракционного предела. Традиционная фотонная литография жестко ограничена длиной волны источника света. Чтобы обойти это препятствие при дальнейшем уменьшении топологических норм, производители вынуждены применять всё более сложные многошаговые методы формирования шаблонов. В подходе Lace фотоны полностью исключаются из процесса: их заменяют нейтральные атомы гелия, ширина пучка которых сопоставима с размером одного атома водорода.
Мнение экспертов и перспективы отрасли
В самой компании технологию обозначают как BEUV (Beyond-EUV или «за пределами EUV»). Бодил Хольст, генеральный директор и соучредитель Lace Lithography, утверждает, что технология позволит печатать микросхемы с «атомным разрешением». Эту оценку поддерживает Джон Петерсен, научный директор по литографии Imec, отмечая, что такой метод способен уменьшить размеры транзисторов на порядок, достигая практически невообразимых сегодня масштабов интеграции.
Конкуренция и альтернативные подходы к литографии
Lace Lithography влилась в растущий список стартапов, стремящихся предложить альтернативы текущему оборудованию от ASML. Параллельно с ними компании Substrate и xLight работают над источниками света на базе ускорителей частиц для EUV и рентгеновской литографии. В свою очередь, Canon уже начала внедрение наноимпринтной литографии, поставив первый инструмент в Техасский институт электроники еще осенью 2024 года, а китайская компания Prinano представила собственную систему аналогичного типа.
Однако путь Lace выглядит уникальным, так как компания полностью отказывается от электромагнитного излучения. Несмотря на наличие работающих прототипов, создание полноценного серийного оборудования — задача колоссальной сложности. В данный момент стартап планирует запуск испытательного стенда на пилотном производстве к 2029 году, в то время как сроки массового внедрения технологии пока не определены.
Важно помнить, что ASML потребовались десятилетия работы и миллиарды долларов инвестиций, чтобы превратить EUV из лабораторного эксперимента в промышленный стандарт. На сегодняшний день в штате Lace Lithography насчитывается более 50 специалистов, работающих в Норвегии, Испании, Великобритании и Нидерландах, а первые публичные результаты исследований были представлены на конференции SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
