Бельгийский исследовательский центр Imec объявил о получении передового EUV-сканера ASML TWINSCAN EXE:5200 с высокой числовой апертурой (High-NA, 0,55). Это оборудование открывает путь к созданию полупроводниковых структур нового поколения, предоставляя разработчикам инструмент для освоения техпроцессов, которые придут на смену текущим стандартам.
Новый сканер значительно превосходит возможности систем с числовой апертурой 0,33 по показателям оптического разрешения, производительности обработки кремниевых пластин и общей стабильности техпроцесса. Установка будет интегрирована в пилотную линию NanoIC в Imec, где специалисты займутся отработкой производства микросхем по нормам менее 2 нм и подготовкой к полноценной «эре ангстремов» (Ångström era).
Преимущества технологии High-NA EUV
Переход на сканеры с высокой числовой апертурой позволяет печатать критически важные элементы микросхем за один проход литографии. Это дает сразу несколько преимуществ:
- Упрощение производственного цикла.
- Снижение себестоимости изделий.
- Рост процента выхода годных кристаллов.
- Отказ от сложной многоэтапной проекции (multi-patterning), характерной для оборудования предыдущих поколений.
Система EXE:5200 обладает повышенной точностью совмещения слоев и полной совместимостью с перспективными материалами, такими как фоторезисты на основе оксидов металлов, что критически важно для дальнейшей миниатюризации транзисторов.
Путь к промышленному масштабу
Последние два года Imec и ASML вели совместные исследования в лаборатории в Вельдховене. Там уже удалось добиться мировых рекордов, включая печать линий шириной 16 нм за один экспозиционный проход. Установка EXE:5200 в Imec позволит перевести эти лабораторные успехи на промышленные рельсы, интегрируя литографию в полноценную технологическую цепочку с учетом современных требований к метрологии и обработке сырья.
Сроки и перспективы внедрения
Полный запуск системы в эксплуатацию запланирован на четвертый квартал 2026 года. До этого момента исследовательские работы продолжатся в рамках партнерства ASML и Imec. Доступ к этой установке позволит ведущим участникам полупроводниковой индустрии, включая производителей чипов и поставщиков материалов, заранее отработать технологии для будущих AI-ускорителей и высокоплотных накопителей данных.
Реализация проекта стала возможной благодаря поддержке Европейского союза и национальных правительств Бельгии и Нидерландов. Инвестиции в столь дорогостоящее оборудование подтверждают роль Imec как главного технологического «трамплина», обеспечивающего продолжение закона Мура за пределами 2-нм техпроцессов и открывающего дорогу к выпуску чипов масштаба A10/A7.
