Минпромторг России инициировал разработку программного обеспечения для проектирования микросхем, способного работать с топологиями 90 нм и выше. Данный проект направлен на создание фундамента отечественной системы автоматизированного проектирования (САПР), которая позволит готовить документацию и изготавливать фотошаблоны для микроэлектроники по зрелым техпроцессам.
На реализацию этой задачи ведомство выделило бюджет в размере 943 млн рублей. Официальный тендер был размещен 28 апреля 2026 года, а финальные результаты разработки ожидаются к 1 ноября 2028 года. Программный комплекс должен состоять из ряда критически важных модулей, включая функции загрузки данных, визуального контроля топологии, формирования эскизов и сборки фотошаблонов. Особым требованием является совместимость будущего софта с линейкой белорусских лазерных генераторов фотошаблонов.
Курс на технологический суверенитет
Инициатива по развитию отечественных систем автоматизированного проектирования является закономерным шагом в рамках стратегии импортозамещения. До 2022 года российские компании в значительной степени опирались на зарубежные программные пакеты от компаний Cadence и Synopsys. После того как введение санкций закрыло доступ к этим инструментам, развитие собственной базы стало приоритетной задачей.
Еще в 2024 году Минпромторг утвердил профильную «дорожную карту», рассчитанную до 2030 года. Общий объем инвестиций в научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы (НИОКР) в данном направлении был оценен в 54,6 млрд рублей. Согласно планам ведомства, в ближайшие годы в России появится порядка 100 различных платформ САПР. Кроме того, дорожная карта предусматривает поэтапное усложнение задач: после освоения сегмента 90 нм планируется переход к разработке программного обеспечения для более тонкого техпроцесса — 28 нм.
