Немецкая компания Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) официально объявила о запуске новой производственной площадки в Германии. Основная цель расширения — существенное увеличение объемов выпуска оптических компонентов, необходимых для систем EUV-литографии.
Это событие имеет стратегическое значение для всей глобальной полупроводниковой индустрии. Zeiss SMT на сегодняшний день остается единственным в мире эксклюзивным поставщиком высокоточной оптики для EUV-сканеров компании ASML. По сути, выпуск современных передовых чипов невозможен без участия Zeiss, так как именно их линзы, системы освещения и зеркала являются «сердцем» литографического оборудования.
_large.png)
Производственные мощности Zeiss традиционно считаются одним из ключевых факторов, ограничивающих скорость поставок сканеров ASML. В своем годовом отчете руководство ASML открыто признавало, что любые перебои на стороне этого партнера могут стать критическим препятствием для бизнеса. Технологическая сложность процесса поражает: одна проекционная система для EUV-сканера состоит из более чем 40 тысяч деталей и весит около 12 тонн. Изготовление отдельных высокоточных зеркал для этих машин может занимать несколько месяцев непрерывной работы.
Чтобы ускорить масштабирование производства, компания ASML предоставила своему партнеру значительную финансовую поддержку: кредит в размере 1,91 млрд евро и авансовый платеж на сумму 1,19 млрд евро. Общая задача компаний заключается в оптимизации производственных циклов — планируется сократить время сборки одного EUV-комплекса с 22 недель до 15–16 недель, а также нарастить суммарный объем поставок.
Динамика сотрудничества двух гигантов наглядно отражает растущий спрос на оборудование для литографии. Объем закупок ASML у Zeiss SMT демонстрирует уверенный рост: если в 2023 году он составлял 3,33 млрд евро, то в 2024 году показатель увеличился до 3,95 млрд евро, а по итогам 2025 года достиг отметки в 4,41 млрд евро.






