Тег: литография
Intel преодолела отметку в один миллион пластин с использованием High-NA EUV
Компания Intel достигла значимого результата в производстве чипов, обработав более миллиона 300-мм кремниевых пластин на сканерах High-NA EUV менее чем за 2,5 года.
Intel обработала более миллиона пластин на High-NA EUV сканерах
Компания Intel достигла отметки в миллион обработанных кремниевых пластин с использованием сканеров High-NA EUV, опередив по этому показателю всю остальную отрасль.
Китай развивает производство собственных литографических систем для выпуска чипов
Китай планирует выпускать по 20 литографических DUV-систем в год к 2027 году, стремясь к технологической независимости в производстве полупроводников.
Китайское DUV-оборудование для производства чипов отстает от ASML
Китай осваивает выпуск оборудования для иммерсионной DUV-литографии, однако эксперты оценивают текущие разработки как отстающие на несколько поколений от ASML.
LG запустила продажи собственного литографа за $2 млн — без фотошаблонов...
LG начала поставки систем прямой лазерной литографии (LDI). Оборудование за $2 млн позволяет печатать схемы без шаблонов и работать со стеклянными подложками.
LG научилась выпускать подложки для сверхплотных чипов без фотомасок
LG представила установку лазерной прямой экспозиции (LDI), которая позволяет создавать сложные подложки для чипов без использования дорогих фотомасок.
Китай бросает вызов ASML: началось серийное производство собственных литографов
Китай начал серийное производство иммерсионных DUV-литографов, чтобы снизить зависимость от оборудования ASML и защититься от возможных санкций США.
TSMC нарастила производство 2-нм чипов до 20 000 пластин в месяц
TSMC достигла отметки в 20 000 кремниевых пластин в месяц по 2-нм техпроцессу N2. Технология GAAFET обеспечивает прирост производительности и энергоэффективности.
Китай запустил массовое производство своих DUV-литографов для выпуска 7-нм чипов
Китайская промышленность начала серийный выпуск собственных DUV-литографов. Первые установки отправятся к SMIC и CXMT уже в этом году, однако до уровня ASML еще далеко.
_large.png "Без Zeiss не было бы современных чипов: важнейший партнер ASML расширяет производство компонентов для EUV-литографии")
Без Zeiss не было бы современных чипов: важнейший партнер ASML расширяет...
Zeiss SMT открывает новое производство оптики для EUV-литографии, чтобы ускорить выпуск сканеров ASML и снизить время их сборки до 16 недель.
